Clişee fotopolimerice cu developare in apa WSA52 sau alcool ST52
100 x 100 (mm) | 500 x 600 (mm) | 640 x 1050 (mm) |
Furnizor: FLINT GROUP GERMANIA | Furnizor: FLINT GROUP GERMANIA | Furnizor: FLINT GROUP GERMANIA |
Agent developare: Solutie alcoolica sau apa | Agent developare: Solutie alcoolica sau apa | Agent developare: Solutie alcoolica sau apa |
Caracteristici: Pachete de 10 placi | Caracteristici: Se livreaza la format sau debitat | Caracteristici: Se livreaza la format sau debitat |

Verificarea adancimii de gravare/corodare a matritelor tampografice se realizeaza cu un echipament profesional KEYENCE cu laser, non-contact, care efectueaza masuratori de inalta precizie pe orice material sau suprafata (denivelata, neuniforma sau curba).
Plăcile fotopolimerice de tip Nylograv constau dintr-un strat de fotopolimer cu sensibilitate UV, depus pe o placă suport din metal. Un strat de adeziv uneşte suportul metalic de stratul de fotopolimer. Suprafaţa stratului de fotopolimer este acoperită cu o folie de protecţie ceea ce permite depozitarea şi manipularea fără probleme .
Tipul de placă frecvent folosit este ST52 pe suport de oţel cu grosimea de 0,3 mm pentru oţel şi 0,2 mm pentru fotopolimer cu developare în soluţie alcoolică şi are culoare roşie. Produsul prezintă rezistenţă la esteri, cetone şi toluen.
Plăcile fotopolimerice sunt sensibile la lumina UV. Din aceasta cauză plăcile neexpuse trebuie să fie protejate de lumina UV (se acoperă geamurile din camera de lucru cu folii galbene şi se lucrează cu lumina galbenă) . De semenea trebuie să fie cât se poate de curat în camera de lucru (fără praf). Etapele realizării clişeelor din placă de fotopolimer sunt următoarele :
A) Expunerea plăcilor se poate face în două moduri :
- o singură expunere folosind un film pozitiv special deja rasterizat
- o expunere folosind un film pozitiv liniar, urmată de o nouă expunere cu film raster obişnuit.
Se recomandă utilizarea unor instalaţii de expunere cu vacuum, iar sursa de expunere să fie o lampă metal halid sau tuburi fluorescente care emit o radiaţie UV cu lungimea de undă cuprinsă între 360 – 380 nm.
Pentru a determina timpul corect de expunere şi adâncimea gravării se foloseşte un film test BASF şi un microscop de adâncime. Se recomandă efectuarea unor teste de expunere, urmate de o verificare cu ajutorul microscopului. Adâncimea de gravare este controlată de timpul de expunere şi de tipul filmului raster. Teoretic în realizarea gravării se consideră o expunere parţială (50% din timp) a clişeului fotopolimeric şi o expunere finală (50% din timp) cu filmul raster. Raportul de timp între timpul de expunere cu film liniar şi timpul de expunere cu film raster poate varia, funcţie de înalţimea vârfurilor ce trebuie realizate în gravare. Un timp de expunere cu film raster, mai mic decât timpul de expunere cu film liniar va determina o înalţime a vârfurilor mai mică, deci un clişeu mai adânc.
Etapele de lucru în realizarea expunerii sunt:
- se îndepărteaza folia de protecţie de la suprafaţa clişeului şi se aşează filmul liniar cu stratul de emulsie în contact cu clişeul fotopolimeric.
Pentru a se evita formarea de bule de aer sub film, se şterge filmul cu un material antistatic şi se pudrează suprafaţa clişeului cu pudră de talc.
- se realizează vacuumul şi expunerea cu filmul liniar, la un timp de expunere stabilit
- se îndepărtează filmul liniar şi se asează filmul raster cu emulsia în contact cu fotopolimerul
- se realizează din nou vacuum şi expunerea la timpul stabilit
Se recomandă utilizarea unor instalaţii de expunere cu vacuum, iar sursa de expunere să fie o lampă metal halid sau tuburi fluorescente care emit o radiaţie UV cu lungimea de undă cuprinsă între 360 – 380 nm.
Pentru a determina timpul corect de expunere şi adâncimea gravării se foloseşte un film test BASF şi un microscop de adâncime. Se recomandă efectuarea unor teste de expunere, urmate de o verificare cu ajutorul microscopului. Adâncimea de gravare este controlată de timpul de expunere şi de tipul filmului raster. Teoretic în realizarea gravării se consideră o expunere parţială (50% din timp) a clişeului fotopolimeric şi o expunere finală (50% din timp) cu filmul raster. Raportul de timp între timpul de expunere cu film liniar şi timpul de expunere cu film raster poate varia, funcţie de înalţimea vârfurilor ce trebuie realizate în gravare. Un timp de expunere cu film raster, mai mic decât timpul de expunere cu film liniar va determina o înalţime a vârfurilor mai mică, deci un clişeu mai adânc.
Etapele de lucru în realizarea expunerii sunt:
- se îndepărteaza folia de protecţie de la suprafaţa clişeului şi se aşează filmul liniar cu stratul de emulsie în contact cu clişeul fotopolimeric.
Pentru a se evita formarea de bule de aer sub film, se şterge filmul cu un material antistatic şi se pudrează suprafaţa clişeului cu pudră de talc.
- se realizează vacuumul şi expunerea cu filmul liniar, la un timp de expunere stabilit
- se îndepărtează filmul liniar şi se asează filmul raster cu emulsia în contact cu fotopolimerul
- se realizează din nou vacuum şi expunerea la timpul stabilit
B) Developarea
În timpul developării, pe porţiunile unde nu s-a întărit emulsia în timpul expunerii la lumina UV, aceasta este îndepărtată . Părţile neexpuse de pe placă vor fi developate mecanic, în tăvi speciale, cu un burete pluşat şi un lichid de developare, la presiune scăzută şi cu mişcări circulare. Lichidul de developare poate fi apă la temperatura de 30ºC pentru plăci care se developează în apă şi o soluţie alcoolică (tip Morlock) la temperatura de 20ºC pentru plăci cu developare în alcool. Timpul de developare este de aproximativ 60–90 sec. Pentru o developare corectă nu se vor depăşi 120 sec.
C) Uscarea
După developare, plăcile Nylograv se clătesc folosind apă sau alcool în funcţie de tipul plăcii. Orice urma de apă sau alcool care mai rămine pe placă trebuie îndepărtată. Acest lucru se poate face prin suflare cu aer comprimat. În timpul uscării, lichidul de developare absorbit de placa fotopolimerică se va evapora. Uscarea este cea care determină calităţile ulterioare ale plăcii. Timpul de uscare este de 20 min. la temperatura de 100ºC pentru plăcile cu developare în apă si 80ºC pentru plăcile cu developare în alcool.
D) Postexpunerea
Pentru întărirea fotopolimerului, plăcile trebuie expuse încă o dată timp de 8–10 min. in unitatea de expunere fără a se folosi filmul pozitiv. Plăcile de fotopolimer sânt livrate în pungi de plastic închise la culoare, ermetice, rezistente la umezeală. Marginile foarte încreţite ale pungilor oferă protecţie în timpul transportului. Atât pe pungile de plastic cât şi pe ambalajul exterior există o etichetă pe care este specificat conţinutul. Este foarte important de asemenea şi codul produsului. Se va face referire la acesta în cazul plângerilor ulterioare.
DEPOZITAREA PLĂCILOR NEEXPUSE
Plăcile de fotopolimer neexpuse se depozitează cel mai bine în locuri uscate şi răcoroase, sigilate în pungile de plastic în care sânt livrate. Ele pot fi depozitate şi la temperatura camerei. Umiditatea relativă trebuie să fie între 50–60%. Plăcile neexpuse trebuie să fie protejate de lumina zilei şi cea UV şi de cea provenită accidental de la o lampa de expunere. În cazul în care din ambalajul original sânt scoase plăci neexpuse, acestea trebuie puse în pungi închise la culoare şi neapărat curate.
DEPOZITAREA PLĂCILOR EXPUSE
Din cauza fragilităţii, plăcile fotopolimerice care urmează a fi refolosite trebuie să fie depozitate în locuri unde umiditatea să fie de aproximativ 60% şi temperatura de 20 - 22ºC. Este mult mai bine ca plăcile să mai fie protejate într-o pungă în care să nu poată pătrunde lumina.
MÂNUIREA PLĂCILOR
Filmul protector de pe suprafaţa plăcilor de fotopolimer nu trebuie folosit pentru alte aplicaţii. Plăcile şi solvenţii de spălare conţin substanţe care în concentraţii mari nu au efecte negative asupra pielii, ochilor şi mucoaselor chiar daca sânt utilizate perioade mai lungi de timp. Acesta este rezultatul cercetărilor toxicologice făcute.
Pentru a evita efecte care pot apărea ulterior, ca de exemplu iritaţii ale pielii, trebuie să luaţi în considerare următoarele :
- evitaţi contactul direct al pielii cu plăci neexpuse şi solvenţii de spălare purtând echipament de protecţie .
- schimbaţi imediat orice obiect de îmbrăcaminte care a venit în contact cu solventul de curăţare şi spălaţi pielea afectată cu apa şi săpun.
- folositi o cremă protectoare ca precauţie.
- curaţaţi imediat camera în care s-a lucrat
- nu vă uitaţi direct la lumina UV
Manevrarea plăcilor expuse nu necesită măsuri de protecţie. Echipamentul de procesare a plăcilor îndeplineşte toate condiţiile de siguranţă. Instrumentele folosite pentru expunere, developare şi uscare sunt testate în laboratoare speciale. Masuri speciale pentru evacuarea aerului din camerele de lucru nu sunt necesare.
RECICLAREA PLĂCILOR ŞI A LICHIDELOR DE SPĂLARE
Solventul de spălare conţine numai carbon ca şi compus organic. Nu conţine metale grele şi hidrocarbon clorinat. Apa cu care sunt spălate plăcile poate fi deversată în canalizare. Cercetările experţilor au demonstrat că această apă nu provoacă daune biologice. Resturile de amestec apă şi alcool nu trebuie deversate în canalizare. Pot fi distilate şi reutilizate. Filmul protector şi plăcile care nu mai pot fi folosite se vor preda unor centre de colectare.
Pentru mai multe informaţii vă puteţi adresa firmei E.D.C.G.